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集成电路资料

在集成电路资猜中,溅射铝靶基材宽泛利用于沉积导电层等关键结构,确保内部电子信号的顺畅传输和机能不变,满足液晶显示技术高分辨率、高透光性的发展需要,推动集成电路和液晶显示造作技术的不休进取。
集成电路资料

利用部件:集成电路资料金属连线层

利用产品:超纯铝靶基材

利用部件:液晶显示薄膜晶体管

利用产品:超纯铝靶基材

集成电路资料金属连线层

利用部件:集成电路资料金属连线层

利用产品:超纯铝靶基材

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技术优势

全球最大5N高纯铝熔铸基地
全球最大5N高纯铝熔铸基地

全球最大5N高纯铝熔铸基地

占有全球最大AL99.999%及以上纯度高纯铝熔铸产线,可供给圆铸锭、扁铸锭及丝材等各规格产品
年产1500T晶析提纯产线
年产1500T晶析提纯产线

年产1500T晶析提纯产线

占丰年产1500T晶析提纯产线,可供给AL99.9995%及以上纯度超高纯铝,一次合格率达到70%
前沿陆续化加工系统
前沿陆续化加工系统

前沿陆续化加工系统

通过全自动圆铸锭锯铣加工、探伤检测至挤压陆续化作业,出产效能提升10%以上,构建高效不变的精密加工造作系统。

技术优势

全球最大5N高纯铝熔铸基地
全球最大5N高纯铝熔铸基地

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占有全球最大AL99.999%及以上纯度高纯铝熔铸产线,可供给圆铸锭、扁铸锭及丝材等各规格产品
年产1500T晶析提纯产线
年产1500T晶析提纯产线

年产1500T晶析提纯产线

占丰年产1500T晶析提纯产线,可供给AL99.9995%及以上纯度超高纯铝,一次合格率达到70%
前沿陆续化加工系统
前沿陆续化加工系统

前沿陆续化加工系统

通过全自动圆铸锭锯铣加工、探伤检测至挤压陆续化作业,出产效能提升10%以上,构建高效不变的精密加工造作系统。

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